技术特征：
1.一种包含无定形非多孔二氧化硅颗粒的口腔组合物，所述二氧化硅颗粒不是通过四烷氧基硅烷的缩聚或沉淀工艺或热处理至200℃以上制备的，其中rda小于200，优选小于180，并且所述二氧化硅颗粒的总压汞(hgi)孔体积小于0.8ml/g，或者孔直径小于0.11微米的所述二氧化硅颗粒的粒内hgi孔体积小于0.10cc/g。2.根据权利要求1所述的口腔组合物，其中所述二氧化硅颗粒是球形的。3.根据权利要求1或2所述的口腔组合物，其中所述二氧化硅颗粒具有以下性质中的一种或多种：(a)所述二氧化硅颗粒的bet表面积为小于25m2/g，优选为小于10m2/g，优选为小于3m2/g；还优选为小于1.5m2/g；(b)所述二氧化硅颗粒的中值粒径为1至25μm，优选为1至15μm，还优选为3至10μm；(c)所述二氧化硅颗粒的油吸收容量为小于或等于40cc/100g，优选为15至30cc/100g；(d)所述二氧化硅颗粒的填充密度为大于60lb/ft3，优选为大于或等于62lb/ft3，还优选为62至70lb/ft3；(e)所述二氧化硅颗粒的倾倒密度为小于50lb/ft3，优选为小于45lb/ft3，还优选为40至45lb/ft3；(f)所述二氧化硅颗粒的灼烧减量(loi)为3至10重量％，优选为3至8重量％，还优选为3至7重量％，还优选为6至10重量％，还优选为6至8重量％，还优选为5至8重量％；(g)所述二氧化硅颗粒的acorn表面积为小于10m2/g，优选为小于5m2/g，还优选为小于2m2/g，还优选为0.1至3m2/g，还优选为0.5至2m2/g；(h)所述二氧化硅颗粒的ctab表面积为小于15m2/g，优选为小于12m2/g，还优选为小于10m2/g，还优选为1至15m2/g，还优选为1至12m2/g，还优选为1至10m2/g，还优选为1至6m2/g；(i)所述二氧化硅颗粒的总压汞孔体积为小于0.7cc/g，优选为小于0.6cc/g，优选为小于或等于0.4cc/g；(j)所述二氧化硅颗粒的总压汞孔体积优选为小于或等于0.3cc/g，还优选为0.1至0.5cc/g，还优选为0.3至0.4cc/g；(k)孔直径小于0.11微米的所述二氧化硅颗粒的粒内压汞体积为小于0.10cc/g，优选为小于或等于0.07cc/g，还优选为小于或等于0.05cc/g；(l)5％ph为4至11，在一个实施方案中为4至10，在另一实施方案中为6至10，在一个实施方案中为5至8，在又一实施方案中为大于或等于7，在又另一实施方案中为大于或等于8；(m)所述二氧化硅颗粒的湿度校正水abc值为小于45cc/100g，优选为小于40cc/100g，还优选为25cc/100g至42cc/100g，还优选为30cc/100g至40cc/100g；(n)所述二氧化硅颗粒的einlehner磨损值为每100,000转的损失小于或等于10mg，优选小于或等于7mg，还优选小于6mg，还优选1至9mg；(o)所述二氧化硅颗粒的bjh氮吸附孔体积为小于0.002cc/g，优选为小于0.001cc/g；和/或(p)上述(a)-(n)的任何组合。4.根据权利要求1所述的口腔组合物，其中所述二氧化硅颗粒是非球形的(例如片状的)，并且具有以下性质中的一种或多种：(a)bet表面积为小于25m2/g，优选为小于10m2/g，优选为小于3m2/g，优选为小于1.5m2/
g；(b)中值粒径为1至25μm，优选为1至15μm，优选为3至10μm；(c)油吸收容量为小于50cc/100g，优选为30至50cc/100g，优选为30至45cc/100g；(d)填充密度为大于35lb/ft3，优选为35至60lb/ft3；(e)所述二氧化硅颗粒的倾倒密度为小于40lb/ft3，优选为20至30lb/ft3；(f)灼烧减量(loi)为3至10重量％，优选为3至8重量％，优选为3至7重量％，优选为6至10重量％，优选为6至8重量％，还优选为5至8重量％；(g)acorn表面积为小于10m2/g，优选为小于5m2/g，还优选为小于2m2/g，还优选为1至10m2/g；(h)所述二氧化硅颗粒的ctab表面积为小于15m2/g，优选为小于5m2/g，还优选为小于或等于2m2/g；(i)总压汞孔体积为小于或等于0.8cc/g，优选为0.5至0.8cc/g；(j)孔直径小于0.11的所述二氧化硅颗粒的粒内压汞孔体积为小于0.10cc/g，优选为小于或等于0.07cc/g，还优选为小于或等于0.05cc/g；(k)5％ph为4至11，优选为4至10，还优选为6至10，还优选为5至8，还优选为大于或等于7，还优选为大于或等于8；(l)湿度校正水abc值为小于90cc/100g，优选为小于80cc/100g，还优选为小于65cc/100g；(m)einlehner磨损值为每100,000转的损失小于或等于30mg，优选小于或等于25mg，还优选10至25mg；(n)所述二氧化硅颗粒的bjh氮吸附孔体积为小于0.02cc/g，优选为小于0.01cc/g；和/或(o)上述(a)-(n)的任何组合。5.根据权利要求1至4中任一项所述的口腔组合物，其中所述二氧化硅颗粒的扫描电子显微镜(sem)和/或透射电子显微镜(tem)没有显示出内部结构或多孔性的证据。6.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中所述组合物是包含一种或多种口腔上可接受的载体的口腔护理组合物，优选所述口腔护理组合物是洁牙剂组合物。7.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中基于所述组合物的总重量，所述二氧化硅的填充量为1至20重量％，优选为5至20重量％，还优选为10至20重量％。8.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中菌膜清洁率(pcr)为大于70，优选为大于85，还优选为85至110。9.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中所述相对牙本质磨损(rda)值为小于或等于180，优选为小于150，还优选为50至150。10.根据前述权利要求中任一项所述的护理组合物，其中所述组合物的氟化物相容性大于或等于60％，优选大于70％，还优选大于80％，还优选大于或等于90％，还优选大于或等于95％。11.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中所述组合物的亚锡离子相容性大于或等于50％，优选大于或等于60％，还优选大于或等于70％，还优选大于或等于80％，还优选大于或等于90％，还优选大于或等于95％。
12.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中相对牙釉质磨损为小于或等于15，优选为小于10，还优选为小于5。13.根据前述权利要求中任一项所述的口腔组合物，其中所述二氧化硅颗粒是由包括以下步骤的方法制备的：(i)对碱金属硅酸盐溶液进行喷雾干燥以形成硅酸盐粉末；(ii)用酸中和步骤(i)的硅酸盐粉末。14.根据权利要求13所述的口腔组合物，其中所述喷雾干燥步骤(i)包括使用喷雾喷嘴或气动喷嘴对硅酸钠进行雾化。15.根据权利要求13所述的口腔组合物，其中所述喷雾干燥步骤(i)包括使用旋转式雾化器进行雾化。16.根据权利要求13至15中任一项所述的口腔组合物，其中所述碱金属硅酸盐的中和温度为小于或等于30℃，优选在室温下，还优选为小于25℃，还优选为小于10℃，还优选为小于0℃。17.根据权利要求13至16中任一项所述的口腔组合物，其中：a.其中所述二氧化硅与碱金属氧化物的摩尔比为2.5至3.5，优选为2.5至3.3，还优选为2.65至3.3；b.其中所述碱金属选自由以下组成的组：钠、钾、锂或它们的任何混合物，优选所述碱金属硅酸盐是硅酸钠；c.其中所述硅酸盐浓度为10至15重量％，还优选为15重量％；d.其中所述酸是无机酸，优选选自由以下组成的组：硫酸、盐酸、硝酸、磷酸、碳酸或它们的组合，还优选硫酸，还优选碳酸；和/或e.其中所述酸的浓度为小于10重量％，优选为小于6重量％，还优选为5重量％。18.根据权利要求13至17中任一项所述的口腔组合物，其中需要研磨。19.根据权利要求13至17中任一项所述的口腔组合物，其中不需要研磨。20.根据权利要求13至19中任一项所述的口腔组合物，其中在一个实施方案中调节所述酸使得干燥二氧化硅的最终ph大于或等于7，优选大于或等于8；还优选对所述二氧化硅进行后处理，其中优选使用碱、还优选使用碳酸氢钠将5重量％的所述二氧化硅颗粒调节至ph大于7，优选大于8。
技术总结
本公开总体上涉及无定形非多孔球形二氧化硅及其制备方法和在口腔组合物中使用该二氧化硅的方法。氧化硅的方法。
技术研发人员：n
受保护的技术使用者：赢创运营有限公司
技术研发日：2022.02.03
技术公布日：2023/10/15