技术特征：
1.一种远程室，包括：下室，所述下室中用于容纳样品；以及上室，所述上室联接至所述下室的上端部并且在所述上室中形成有导引流动路径，从所述样品解吸的成分流入所述导引流动路径中，其中，在所述上室内部形成有第一空间，所述第一空间构造成接收来自所述下室的解吸成分，在所述下室内部形成有第二空间，所述第二空间是用于容纳所述样品的空间，并且所述第一空间和所述第二空间可以连接成彼此通风。2.根据权利要求1所述的远程室，其中，所述上室包括：侧壁部分，所述侧壁部分具有敞开的上部和下部；顶板，所述顶板联接至所述侧壁部分的上端部；入口，所述入口形成在所述侧壁部分的一个侧壁上以便注入载气；出口，所述出口形成在所述侧壁部分的另一个侧壁上用以将所述载气和从所述样品解吸的成分排出；以及气体导引件，所述气体导引件插入所述第一空间中，并且在所述气体导引件中形成有所述导引流动路径。3.根据权利要求2所述的远程室，其中，所述气体导引件包括：面向所述入口的第一开口；面向所述出口的第二开口；以及面向所述样品的第三开口，并且其中，所述第一开口位于所述导引流动路径的一个端部处，所述第二开口位于所述导引流动路径的另一端部处，并且所述第三开口位于所述导引流动路径的中心向下。4.根据权利要求3所述的远程室，其中，垂直于竖向方向的方向是第一方向，并且垂直于所述竖向方向和所述第一方向的方向是第二方向，并且其中，所述导引流动路径在所述第一方向上延伸，所述第三开口在所述第一方向上位于所述第一开口与所述第二开口之间，所述导引流动路径在所述第二方向上的长度随着其从所述第三开口的中心越靠近所述第一开口而变得越短，并且所述导引流动路径在所述第二方向上的长度随着其从所述第三开口的中心越靠近所述第二开口而变得越短。5.根据权利要求4所述的远程室，其中，在垂直于所述气体导引件的竖向方向的横截面上，所述导引流动路径设置为呈流线型形状，其中，其长轴在所述第一方向上并且短轴在所述第二方向上。6.根据权利要求3所述的远程室，其中，在所述顶板中形成有窗口，所述窗口由能够透光的材料形成，所述气体导引件还包括位于面向所述窗口的位置处的第四开口，并且从外部照射的激光穿过所述窗口、所述第四开口和所述第三开口以照射到所述样品上。
7.根据权利要求1所述的远程室，其中，在所述第二空间中设置有构造成用于加热所述样品的加热器，所述加热器的下端部固定至所述下室的底部表面，并且所述加热器的侧表面与所述下室的内表面分离。8.根据权利要求7所述的远程室，其中，所述加热器构造成将所述样品加热到20℃至1000℃的温度。9.根据权利要求8所述的远程室，其中，所述加热器包括：构造成产生热的加热构件；以及固定至所述加热构件的上端部的样品安装盘。10.根据权利要求9所述的远程室，其中，所述加热器还包括联接至所述样品安装盘的圆周的环形的导引环，并且所述导引环的竖向长度比所述样品安装盘的竖向长度长。11.根据权利要求10所述的远程室，其中，所述样品安装盘和所述导引环由镀金铜或不锈钢形成。12.根据权利要求7所述的远程室，其中，在所述下室的所述底部表面上形成有构造成用于冷却所述第二空间的冷却流动路径。13.一种dart-ms系统，包括：远程室，所述远程室构造成用于将样品容纳于其中；光源单元，所述光源单元构造成通过形成在所述远程室的上端部处的窗口向所述样品照射激光；载气供应单元，所述载气供应单元将载气通过形成在所述远程室中的入口供应至所述远程室的内部空间；气体传输管，所述气体传输管的一个端部连接至形成在所述远程室中的出口并且构造成用于排出从所述样品分离的待分析材料；电离单元，所述电离单元构造成通过向排放到所述气体传输管的另一端部的待分析材料发射氦束来电离所述待分析材料；以及质谱分析单元，所述质谱分析单元构造成吸入待分析的离子化材料并对所述待分析的离子化材料进行分析，其中，所述远程室包括：上室，所述上室设置有所述窗口、所述入口和所述出口，并且在所述上室中形成有第一空间；以及下室，所述下室联接至所述上室的下端部，并且在所述下室中形成有构造成用于容纳所述样品的第二空间。14.根据权利要求13所述的dart-ms系统，其中，所述上室的所述下端部和所述下室的上端部是开放的，使得所述第一空间和所述第二空间是连通的，所述窗口形成在所述上室的上端部中，所述光源单元构造成从所述远程室的上部向下照射激光，并且所述激光穿过所述窗口而到达所述样品。15.根据权利要求13所述的dart-ms系统，其中，构造成调节所述远程室的位置的水平
移动台联接至所述远程室的下端部。
技术总结
本发明涉及一种远程室和使用该远程室的直接实时分析(dart)-质谱(ms)系统，并且本发明的目的是提供一种远程室和使用该远程室的dart-ms系统，其中，可以提高dart装置与ms装置之间的空间自由度，并且可以对样品施加额外的条件。条件。条件。
技术研发人员：刘贤植 裴龙珍 林泳姬
受保护的技术使用者：株式会社lg化学
技术研发日：2022.09.22
技术公布日：2023/10/15