技术特征：
1.一种处理多个衬底的方法，该方法包括：将衬底装载到涂布轨道上；将该衬底移动到该涂布轨道的模块中；进行对在该衬底上形成的膜进行改性的处理；在控制器处从光学传感器获得光学传感器数据，该光学传感器数据包括该膜的特性的测量值；基于该膜的特性来确定干燥度量；以及基于所确定的干燥度量，调整该处理的处理参数。2.如权利要求1所述的方法，其中，调整该处理参数包括：提供反馈信号以针对处理后续衬底来调整该处理参数，确定该处理的终点并终止该处理，提供前馈信号以调整用于该衬底的后续处理的配方，以及提供前馈信号以调整用于当前处理的配方。3.如权利要求1所述的方法，其中，该模块包括涂布模块、烘烤模块或溶剂退火烘烤器。4.如权利要求1所述的方法，其中，进行该处理包括进行定向自组装(dsa)涂布处理，并且其中，调整该处理的处理参数包括调整溶剂饱和时间、溶剂饱和温度、溶剂饱和浓度、溶剂排空起始时间、溶剂排空速率、溶剂排空持续时间、dsa排放条件、dsa处理旋转速度、环境气体流量、溶剂排空温度、dsa退火温度、dsa退火时间或dsa处理条件。5.如权利要求1所述的方法，其中，该控制器将光学传感器数据发送到故障检测与修正(fdc)系统，并从该fdc系统接收回经处理的光学传感器数据。6.如权利要求1所述的方法，其中，该光学传感器是激光收发器，其中该光学传感器数据是一连串的干涉条纹，并且进一步包括在该控制器处将该光学传感器数据转换为该膜的特性。7.如权利要求1所述的方法，其中，确定该干燥度量包括基于该光学传感器数据确定该膜中的组分的蒸发速率。8.如权利要求1所述的方法，其中，该光学传感器包括在该衬底上方间隔开的多个光学传感器，其中获得该光学传感器数据包括从该多个光学传感器接收光学传感器数据，该方法进一步包括：将该光学传感器数据转换为在整个该衬底上的膜特性均匀度。9.一种处理多个晶圆的方法，该方法包括：将衬底装载到具有挥发性有机化合物(voc)传感器的模块中；在该模块中处理该衬底以对在该衬底上形成的膜进行改性；在该处理期间从该voc传感器获得voc传感器数据；以及基于该voc传感器数据，在控制器处调整该处理的处理参数。10.如权利要求9所述的方法，其中，调整该处理参数包括：提供反馈信号以针对处理后续衬底来调整该处理参数，确定该处理的终点并终止该处理，提供前馈信号以调整用于该衬底的后续处理的配方，或提供前馈信号以调整用于当前处理的配方。
11.如权利要求9所述的方法，其进一步包括：在该处理期间从光学传感器获得光学传感器数据，该光学传感器布置在该模块中，其中调整该处理参数包括基于该光学传感器数据调整该处理参数。12.如权利要求11所述的方法，其进一步包括：将该光学传感器数据与该voc传感器数据相关联；以及在该控制器处，进行从该voc传感器数据获得的挥发性有机物的浓度与从光学传感器数据获得的该膜的特性之间的第一关联或该挥发性有机物的浓度的变化与该膜的特性的变化之间的第二关联或该挥发性有机物的浓度的变化与该处理中的处理步骤的持续时间之间的第三关联。13.如权利要求9所述的方法，其中，调整该处理的处理参数包括：将该voc传感器数据转换为在该处理期间该模块中的环境条件或该膜的特性；以及基于该环境条件或该膜的特性，调整该处理参数。14.如权利要求9所述的方法，其中，该模块包括涂布模块并且调整该处理参数包括调整该涂布模块的涂布处理参数，或其中，该模块包括烘烤模块并且调整该处理参数包括调整该烘烤模块的烘烤处理参数。15.如权利要求9所述的方法，其中，处理该衬底包括进行旋涂处理。16.如权利要求9所述的方法，其进一步包括在该控制器处将该voc传感器数据与存储的极好的传感器数据或与存储的终点阈值进行比较，其中调整该处理的处理参数包括响应于确定存储的极好的传感器数据与该voc传感器数据之间的差值超过预定值而调整该处理，或者响应于确定该voc传感器数据跨过该存储的终点阈值而终止该处理。17.一种处理多个晶圆的方法，该方法包括：将衬底装载到具有边缘珠传感器的模块中；在该模块中处理该衬底以对在该衬底上形成的膜进行改性，该膜包括在该衬底的边缘处的边缘珠；在该处理期间从该边缘珠传感器获得边缘珠传感器数据；以及基于该边缘珠传感器数据，在控制器处调整该处理的处理参数。18.如权利要求17所述的方法，其中，该边缘珠传感器包括光学传感器。19.如权利要求18所述的方法，其中，调整该处理的处理参数包括针对后续衬底来调整该处理的处理参数。20.如权利要求19所述的方法，其中，调整该处理的处理参数包括调整通过该处理移除的该膜的一部分的宽度、边缘珠凸起的宽度、该边缘珠凸起的高度或该边缘珠凸起的斜度。
技术总结
一种处理多个衬底的方法包括将衬底装载到涂布轨道上，将该衬底移动到该涂布轨道的模块中，进行对在该衬底上形成的膜进行改性的处理，以及在控制器处从光学传感器获得光学传感器数据。该光学传感器数据包括该膜的特性的测量值。该方法包括基于该膜的特性确定干燥度量，以及基于所确定的干燥度量调整该处理的处理参数。理参数。理参数。
技术研发人员：迈克尔
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2022.01.12
技术公布日：2023/10/15